韩国半导体龙头企业三星电子和SK海力士近期针对第六代10纳米级动态随机存取存储器（DRAM）进行技术升级。
SK海力士于8月底宣布开发出业界首款第六代10纳米级DRAM芯片。该芯片运行速度为8Gbps（千兆比特/秒），与前一代相比速度提高了11%，将主要用于高性能数据中心。SK海力士表示，该芯片比前一代的能效提高了9%以上，在当前人工智能蓬勃发展的时期，可帮助数据中心减少多达30%的电力成本。
三星电子半导体部门目前正在对干式光刻胶技术进行内部评估，计划率先将其应用于三星电子10纳米级第六代DRAM中。干式光刻胶技术用于半导体电路曝光工艺之前。在当前曝光工艺条件下，会在晶圆上涂抹一种对光敏感的液体光刻胶。干式光刻胶技术则无需涂抹液体光刻胶，通过化学反应在晶圆上形成一层薄膜，较涂抹液体光刻胶更薄且更均匀。此外，干式光刻胶还能更精确地刻出超微细电路，并且相较液体光刻胶的材料浪费更少。
三星电子正在考虑在10纳米级第六代DRAM的40—50层堆叠中，将干式光刻胶技术用于某一层电路的制造。此外，这项技术也将用于超微细电路的极紫外光（EUV）光刻胶。如果三星电子成功将干式光刻胶技术用于量产，将对现有光刻材料与设备生态系统产生重大影响。
韩国半导体龙头企业三星电子和SK海力士近期针对第六代10纳米级动态随机存取存储器（DRAM）进行技术升级。
SK海力士于8月底宣布开发出业界首款第六代10纳米级DRAM芯片。该芯片运行速度为8Gbps（千兆比特/秒），与前一代相比速度提高了11%，将主要用于高性能数据中心。SK海力士表示，该芯片比前一代的能效提高了9%以上，在当前人工智能蓬勃发展的时期，可帮助数据中心减少多达30%的电力成本。
三星电子半导体部门目前正在对干式光刻胶技术进行内部评估，计划率先将其应用于三星电子10纳米级第六代DRAM中。干式光刻胶技术用于半导体电路曝光工艺之前。在当前曝光工艺条件下，会在晶圆上涂抹一种对光敏感的液体光刻胶。干式光刻胶技术则无需涂抹液体光刻胶，通过化学反应在晶圆上形成一层薄膜，较涂抹液体光刻胶更薄且更均匀。此外，干式光刻胶还能更精确地刻出超微细电路，并且相较液体光刻胶的材料浪费更少。
三星电子正在考虑在10纳米级第六代DRAM的40—50层堆叠中，将干式光刻胶技术用于某一层电路的制造。此外，这项技术也将用于超微细电路的极紫外光（EUV）光刻胶。如果三星电子成功将干式光刻胶技术用于量产，将对现有光刻材料与设备生态系统产生重大影响。
中国科学院深圳先进技术研究院15日发布消息称，该院科研团队研发了一种具有靶向送药功能的磁驱软体机器人，该机器人能够根据器官内部环境的特点选择合适的运动模式，实现靶向送药的同时还可以控制 “当时是怎样选中低空经济这个领域，并且来深圳发展的？”面对这个关乎事业发展的问题，“95后”台青张晏纶坦言，“这是一场面试带来的惊喜。”张晏纶来自台湾台中市，本科就读于台湾成功大学机械工程 记者3月21日获悉，商汤科技与遥感数据平台吉林一号网、四维地球、星图地球等展开合作，此举标志着“SenseEarth智能遥感云”平台数据源全面升级，将为行业用户提供更完善、精准的一体化的高分辨率 3月19日，记者从中国科学院海洋研究所了解到，该所研究团队在国际上首次发布了银鲳的高质量染色体水平参考基因组。相关研究论文近日在线发表于《自然》子刊《科学数据》。银鲳广泛分布于西北太 中国气象局下一代大气数值模式日前发布。该模式采用完全自主的动力框架算法——多矩约束有限体积方法为基础算法，进一步提升全球公里级和区域百米级尺度数值预报的精度，显著减小全球 据英国《每日电讯报》网站3月18日报道，根据英国政府的新航空计划，首批电动飞行出租车将于2026年试飞。周一发布的《“飞行未来”行动计划》为飞行出租车在2030年广泛使用铺平道路。尽管在最初 。本文链接：韩企推进存储半导体技术升级http://www.sushuapos.com/show-2-8359-0.html
声明：本网站为非营利性网站，本网页内容由互联网博主自发贡献，不代表本站观点，本站不承担任何法律责任。天上不会到馅饼，请大家谨防诈骗！若有侵权等问题请及时与本网联系，我们将在第一时间删除处理。
上一篇： 基因疗法提高视网膜敏感度上百倍
下一篇： 日拟建全球首台“泽级”超级计算机