韩国半导体龙头企业三星电子和SK海力士近期针对第六代10纳米级动态随机存取存储器（DRAM）进行技术升级。
SK海力士于8月底宣布开发出业界首款第六代10纳米级DRAM芯片。该芯片运行速度为8Gbps（千兆比特/秒），与前一代相比速度提高了11%，将主要用于高性能数据中心。SK海力士表示，该芯片比前一代的能效提高了9%以上，在当前人工智能蓬勃发展的时期，可帮助数据中心减少多达30%的电力成本。
三星电子半导体部门目前正在对干式光刻胶技术进行内部评估，计划率先将其应用于三星电子10纳米级第六代DRAM中。干式光刻胶技术用于半导体电路曝光工艺之前。在当前曝光工艺条件下，会在晶圆上涂抹一种对光敏感的液体光刻胶。干式光刻胶技术则无需涂抹液体光刻胶，通过化学反应在晶圆上形成一层薄膜，较涂抹液体光刻胶更薄且更均匀。此外，干式光刻胶还能更精确地刻出超微细电路，并且相较液体光刻胶的材料浪费更少。
三星电子正在考虑在10纳米级第六代DRAM的40—50层堆叠中，将干式光刻胶技术用于某一层电路的制造。此外，这项技术也将用于超微细电路的极紫外光（EUV）光刻胶。如果三星电子成功将干式光刻胶技术用于量产，将对现有光刻材料与设备生态系统产生重大影响。
韩国半导体龙头企业三星电子和SK海力士近期针对第六代10纳米级动态随机存取存储器（DRAM）进行技术升级。
SK海力士于8月底宣布开发出业界首款第六代10纳米级DRAM芯片。该芯片运行速度为8Gbps（千兆比特/秒），与前一代相比速度提高了11%，将主要用于高性能数据中心。SK海力士表示，该芯片比前一代的能效提高了9%以上，在当前人工智能蓬勃发展的时期，可帮助数据中心减少多达30%的电力成本。
三星电子半导体部门目前正在对干式光刻胶技术进行内部评估，计划率先将其应用于三星电子10纳米级第六代DRAM中。干式光刻胶技术用于半导体电路曝光工艺之前。在当前曝光工艺条件下，会在晶圆上涂抹一种对光敏感的液体光刻胶。干式光刻胶技术则无需涂抹液体光刻胶，通过化学反应在晶圆上形成一层薄膜，较涂抹液体光刻胶更薄且更均匀。此外，干式光刻胶还能更精确地刻出超微细电路，并且相较液体光刻胶的材料浪费更少。
三星电子正在考虑在10纳米级第六代DRAM的40—50层堆叠中，将干式光刻胶技术用于某一层电路的制造。此外，这项技术也将用于超微细电路的极紫外光（EUV）光刻胶。如果三星电子成功将干式光刻胶技术用于量产，将对现有光刻材料与设备生态系统产生重大影响。
记者日前获悉，位于四川成都未来科技城应用性科创区的民航科技创新示范区（B区）航站楼项目，近日取得施工许可证。这也意味着全国首个模拟验证机场开工。该民航科技创新示范区相关负责人表示，预计模 记者3月21日从安徽农业大学获悉，该校生命科学学院韩毅教授课题组与国内外专家合作，发现了植物避盐性的关键基因。该研究对于提高植物耐盐性，帮助盐碱地下的农作物稳产具有重要理论指导意义。相 造成女性更容易睡不好的原因是多方面的，包括更年期等生理周期等，而女性长期的失眠除了会导致内分泌进一步失调，还会诱发心脏病、高血压、糖尿病、免疫力低下、记忆下降、脱发、皮肤松弛等。北京 中新经纬3月22日电 据《日本经济新闻》22日报道，夏普正在讨论缩小液晶显示器业务，夏普已将子公司显示器(SDP、位于市)停产纳入视野。显示器业务持续陷入苦战，成为夏普在2022财年(截至2023年3月)时隔5年陷入最终亏损 全球首台无细胞蛋白质合成生物反应器、全球首台全高温超导托卡马克装置（洪荒70）、64比特超导量子计算机研发与产业化项目、深海可燃冰探采重载作业机器人系统研制、载人电动复合翼垂直起降飞行 3月22日，在2024低碳建筑产业论坛上，北京首例负碳示范建筑——首程时代中心负碳示范建筑正式亮相。活动现场，中国建筑节能协会、北京绿色交易所分别授予首程时代中心负碳示范建筑“零 。本文链接：韩企推进存储半导体技术升级http://www.sushuapos.com/show-2-8359-0.html
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