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先进光刻胶制备有了新的仿真参考

发布时间: 2026-07-04 10:00:54 来源: 中国科学报

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华东理工大学副教授庄黎伟团队、约翰霍普金斯大学教授迈克尔?萨帕希斯团队与合作者,开展了极紫外(EUV)、超越极紫外(BEUV)先进光刻胶的原子层/分子层沉积(ALD/MLD)制备工艺数值仿真,为有机-无机杂化薄膜的可控制备以及半导体量产型ALD/MLD设备的设计提供了理论依据和工程参考。相关研究成果近日发表于《美国化学工程师学会志》。ycd速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

2021年,泛林集团推出首款全干法光刻胶体系,具备光子吸收效率高、制程步骤精简、良率高、图形缺陷少、边缘模糊低及高深宽比柱状结构成型能力强等优势。该技术后被海力士等存储厂商纳入先进DRAM大规模量产工艺。ycd速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

在前期工作的基础上,研究团队开展了间歇性旋涂化学液相沉积制备非晶态沸石咪唑酯骨架材料(aZIFs)薄膜光刻胶的实验仿真研究,实现了可控的薄膜沉积速率和厚度,并完成了6.7 纳米的BEUV光刻测试。此外,针对干法路线,研究团队开展了ALD/MLD制备aZIFs薄膜光刻胶的实验研究,并进行了EUV和BEUV光刻测试。ycd速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

进一步地,研究团队以二乙基锌(DEZ)和2-甲基咪唑(HmIm)为前驱体,结合实验研究与数值模拟方法,探索了ALD/MLD制备aZnMIm薄膜的气相输运与表面反应机制。模拟实验结果揭示,错流式反应器内存在气体回流和薄膜厚度分布不均的现象。研究团队后续通过在反应腔体内引入横置喷淋头结构,使薄膜厚度不均匀度由14.7%降低至8.0%,显著改善了前驱体分布的均匀性和全域成膜的一致性。ycd速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

原子层/分子层沉积工艺与装备的数值模拟与优化。研究团队供图

相关论文信息:https://doi.org/10.1002/aic.70518ycd速刷资讯——每天刷点最新资讯,了解这个世界多一点SUSHUAPOS.COM

大学校门要全面敞开吗?开放程度如何把握? 近日,北京大学李植副教授发表文章《从今天与保安比赛跑步说起——北京大学的门卫 关于2023年第二批拟备案的省自然科学基金结题验收项目的公示 根据《河南省自然科学基金项目管理办法》(豫科〔2022 ·“这项研究似乎说明,长期生活在食品不安全的状况中所带来的危害是没那么容易逆转的。研究也表明,对于那些因 法国政府近日推出“2030国家生物多样性战略”,包括40项措施和200项行动,旨在保护和恢复生态系统、减少对生物多样性的 ? 肖连团 ? 番兴明 ? 陈 勇 ? 马 洁(以上照片均为受访者提供) ? 数据来源:科技部、国 四川省科学技术厅关于组织申报2024年第二批中央在川高校院所“聚源兴川”项目的通知 各中央在川高校院所、市(州)科 。

本文链接:先进光刻胶制备有了新的仿真参考http://www.sushuapos.com/show-11-36090-0.html

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