美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。研究团队表示，除芯片制造外，该技术还有望应用于纳米药物、量子计算和新材料合成等领域。相关研究发表于新一期《纳米快报》。
EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，其原理是利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，最终形成手机、电脑等电子设备中的芯片。然而，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，体积大到需要占据整个房间，导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。
为降低研究门槛，团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，仅保留核心组件，开发出一套体积更小、成本更低且更易改造的桌面级设备。
与此同时，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，通常只能以二维方式逐层堆叠打印，新打印技术突破了这一限制。此外，传统方法虽然曝光打印过程较快，但后续处理过程往往需要数天时间。新技术能并行构建多个纳米层级结构，而非逐层堆叠，从而将曝光时间缩短至几分钟。
团队称，这项工作目标是降低半导体研究成本，加快新材料和新工艺开发。目前，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，未来还将开展更多实验验证。
现阶段，该技术主要适用于具有周期性结构的器件制造，例如存储芯片和光子器件。团队希望进一步提高打印速度和加工复杂度，实现更小尺寸半导体结构的制造，从而提升芯片计算性能。
美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。研究团队表示，除芯片制造外，该技术还有望应用于纳米药物、量子计算和新材料合成等领域。相关研究发表于新一期《纳米快报》。
EUV光刻是当前先进芯片制造的核心技术，其原理是利用极紫外光将电路图案“打印”到硅基底上，最终形成手机、电脑等电子设备中的芯片。然而，现有商用EUV光刻机造价通常超过2亿美元，体积大到需要占据整个房间，导致全球仅有少数企业具备使用和研发能力。
为降低研究门槛，团队对传统EUV光刻系统进行了大幅简化，仅保留核心组件，开发出一套体积更小、成本更低且更易改造的桌面级设备。
与此同时，团队引入一种名为“体积式3D图案化”的新型打印技术。现有的EUV光刻技术在制造三维纳米结构时，通常只能以二维方式逐层堆叠打印，新打印技术突破了这一限制。此外，传统方法虽然曝光打印过程较快，但后续处理过程往往需要数天时间。新技术能并行构建多个纳米层级结构，而非逐层堆叠，从而将曝光时间缩短至几分钟。
团队称，这项工作目标是降低半导体研究成本，加快新材料和新工艺开发。目前，他们已利用该装置测试了新型EUV光刻材料，未来还将开展更多实验验证。
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据阿根廷布宜诺斯艾利斯经济新闻网2月19日报道，在人工智能(AI)迅速重新定义就业格局的今天，通常被称为“软”技能的人类技能成为最有韧性、最有价值的技能。这是阿尼什·拉曼和玛丽亚&mi 3月21日，由安徽省工业和信息化厅指导、中国光伏行业协会主办、阳光电源股份有限公司承办的“PAT2024爱光伏一生一世”先进技术研讨会在合肥举办。光储高压先进技术发布会现场。阳光电源股份有 记者3月21日从中国科学技术大学获悉，该校物理学院张斗国教授课题组，提出并实现了一种基于矢量光场调控原理的动量空间偏振滤波器件。该滤波器件安装于传统无标记光学显微镜后，可采集到单个纳米 21世纪经济报道记者王峰北京报道 近日，成人职业在线教育企业尚德机构(NYSE:STG)公布了其2023年第四季度及全年未经审计的财务报告。2023年第四季度，尚德机构净收入为5.42亿元（人民币，下 3月22日，在2024低碳建筑产业论坛上，北京首例负碳示范建筑——首程时代中心负碳示范建筑正式亮相。活动现场，中国建筑节能协会、北京绿色交易所分别授予首程时代中心负碳示范建筑“零 作为功能机时代的霸主，诺基亚手机曾经创造了巨大的辉煌，但也因错失智能手机发展机遇而“掉队”。近期，外媒Visual Capitalist统计了有史以来最畅销的15款手机型号，其中诺基亚和苹果包揽前十。今 。本文链接：桌面级光刻机将数天工序压缩至数分钟http://www.sushuapos.com/show-2-16428-0.html
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